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專利撰寫

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  • ·1.專利撰寫中的說明書附圖是必須的嗎？


    說明書根據(jù)內(nèi)容需要，可以有附圖，也可以沒有附圖，但實(shí)用新型說明書必須有附圖，附圖和說明書中對附圖的說明要圖文相符，附圖的形式可以是基本視圖，剖視圖，也可以是示意圖或流程圖。



  • ·2.專利申請文件遞交后還可以修改嗎？


    發(fā)明專利申請人在提出實(shí)質(zhì)審查請求時以及在收到實(shí)質(zhì)審查階段的通知書的3個月內(nèi)，可以對其發(fā)明專利申請主動提出修改。實(shí)用新型或者外觀設(shè)計專利申請人自專利申請日起2個月內(nèi)可主動修改其申請文件。但是，對發(fā)明和實(shí)用新型專利申請文件的修改不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍，對外觀設(shè)計專利申請文件的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。



  • ·3.專利撰寫有哪些要點(diǎn)？


    ①將最核心的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求，實(shí)現(xiàn)最大限度的保護(hù)

    ②將非必要技術(shù)特征寫入?yún)矔鴻?quán)利要求中，因?yàn)閺膶贆?quán)項(xiàng)具有可選擇性，可實(shí)現(xiàn)最大限度的保護(hù)

    ③避免一項(xiàng)專利只有一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求而沒有從屬權(quán)利要求，保護(hù)的范圍過小

    ④避免獨(dú)立權(quán)利要求過于具體或過于抽象

    ⑤避免邏輯上的不一致

    ⑥避免權(quán)利要求記載的技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)劃分錯誤

    ⑦避免背景技術(shù)太簡單、太空泛

    ⑧避免技術(shù)理解錯誤使撰寫之表達(dá)無法被理解甚至不可實(shí)現(xiàn)

    ⑨避免公開不充分

    ——立即辦理